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半导体电子厂 · 方案设计要点

半导体电子厂酸雾净化塔方案设计,绕不开这几条政策

发布于 2022-12-27 10:52 · 关键词:酸雾净化塔 · 全文约 854 字,阅读约 2 分钟

半导体电子厂的湿法蚀刻、清洗工序会产生氢氟酸、盐酸、硫酸这类酸性废气,酸雾净化塔几乎是标配设备。但这几年围绕电子行业废气治理的标准和政策也在不断收紧,方案设计阶段就得把这些要求提前考虑进去,而不是等设备装完再返工。

  • 《电子工业污染物排放标准》(GB39728-2020)对半导体、电子元件制造企业的酸性废气收集处理提出了具体浓度限值,同时要求企业按规范设置采样监测点位,方案设计阶段就要把预留采样口、监测接口纳入图纸。
  • 排污许可管理要求治理设施的实际处理能力跟审批产能匹配,酸雾净化塔不能只按当前产能刚好卡线设计,后续扩产、增线的可能性要提前预留接口和风量余量。
  • 《十四五节能减排综合工作方案》鼓励企业采用先进适用的治理工艺、降低单位产品能耗,酸雾净化塔的水泵、风机能耗也逐渐被纳入企业整体能耗核算范畴。
  • 2022年12月中旬召开的中央经济工作会议明确稳增长与绿色发展并重,大气污染防治的各项要求没有放松,新建产能的环保准入门槛反而更加明确。

这几项要求落到酸雾净化塔的方案设计上,首先体现在材质选型上。半导体厂的酸雾成分复杂,氢氟酸对普通材质腐蚀性极强,塔体、填料、风机叶轮都得按介质特性做针对性防腐选型,PP材质、玻璃钢内衬这类方案比普通碳钢喷漆处理靠谱得多,图便宜用不耐腐蚀的材质,往往一两年就得大修甚至整体更换。

其次是处理能力的预留量。电子厂产线更新换代快,方案设计如果卡着现有风量刚好够用,一旦产线扩容或者新增蚀刻工位,净化塔立刻捉襟见肘。我们济南金浩丰在给半导体客户做酸雾净化塔方案时,一般会跟客户确认未来一到两年的产能规划,风量和处理能力预留至少一到两成余量,管道预留支管接口,方便后续增线时能直接并入现有系统,不用推倒重来。

最后是监测点位和数据接口的预设。按标准要求预留标准采样口位置,同时把在线监测数据接入方式在设计阶段就明确下来,验收和日常执法检查时才不会因为没地方装监测设备而返工改造。方案设计阶段多想一步,比设备装完才发现问题要省心得多。

标签酸雾净化塔半导体电子厂方案设计电子工业排放标准排污许可

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